我們在原子與光的交界處，處置著人類歷史上最嚴苛的工程挑戰。
採用 13.5nm 波長光源，解決摩爾定律在 5nm 以下的圖案化難題。透過高能等離子體激發，實現前所未有的曝光精度。
研發具備 0.55 NA 的反射式鏡頭組，提升解析度與曝光對比。多層膜反射鏡技術確保光束在傳輸過程中的極低損耗。
透過 SAQP 等工藝突破單次曝光的幾何極限。將疊對精度控制在奈米級別，確保多層掩模的完美對準。
矽晶圖刻（Litho-Core）是全球半導體微縮技術的物理守護者。在原子與光的交界處，我們處置著人類歷史上最嚴苛的工程挑戰。
透過將超高真空技術、極紫外光物理與奈米級運動控制結合，我們讓兆億個電晶體得以在指甲蓋大小的空間內和諧運作。從驅動 AI 革命的算力核心到全球通訊的神經網路，矽晶圖刻的每一次脈衝曝光，都在為未來的智慧世界奠定基石。
「我們不只是製造設備，我們是在定義數位文明的物理極限。」